En pratique, près d'une centaine de simulations complètes de dépôts ont été réalisées.
Le nombre de gouttelettes projetées était compris entre 30 et 150, pour des temps
de calculs de l'ordre d'une journée. Avant optimisation du logiciel, les premières
simulations portaient sur 30 à 40 gouttelettes; pour des temps identiques, on peut
actuellement simuler la projection d'une centaine de gouttelettes. Au cours de ce
chapitre, nous allons donner un aperçu des résultats de ces simulations, à
travers quelques exemples pour chacune des situations traitées. Il est aussi à noter
que les séquences d'images obtenues au cours des simulations ont été assemblées
sous la forme de séquences vidéo. Ce type de données constitue un outil
précieux pour juger du comportement dynamique du modèle. Une image d'un dépôt
en cours de formation à un instant s'interprète beaucoup mieux si on peut
la comparer à l'image du dépôt au temps ou .
Nous avons vu que la taille des gouttelettes peut varier au cours d'une simulation.
Sur la Figure IV-14, le dépôt simulé résulte ainsi de la projection de gouttelettes
sélectionnées aléatoirement parmi deux tailles, avec des proportions en volume identiques.
Comme chaque gouttelette est constituée d'une espèce différente, les particules qui
en font partie admettent donc leur propre probabilité d'agrégation. Nous avons
recours à cette possibilité afin de traduire un taux de gouttelettes mal
fondues, dont la probabilité d'agrégation est très elevée (
)
alors que les autres gouttelettes s'étalent largement pour former des couches minces
(
). Comme les simulations de dépôt ne sont pas très
représentatives lorsque ce taux est inférieur à environ
(pour une population de 30 gouttelettes), nous l'avons volontairement exagéré
pour obtenir les résultats de la Figure IV-15a. Cet exemple présente également
sur la Figure IV-15b l'aspect d'une couche lorsque les gouttelettes s'étalent moins
(
) que dans la situation normale (Figure IV-13).
Nous avons également entrepris une étude de l'influence de la géométrie du
substrat sur la morphologie des couches :
D'une part, des rugosités régulières variées ont été placées dans le système: sur la Figure IV-16, nous présentons les résultats des simulations de dépôts sur ces surfaces. Sur cette figure, la rugosité du substrat est périodique et constituée de triangles (de hauteur et de base ). Les simulations pourraient aussi bien porter sur un substrat dont la rugosité est aléatoire. Il apparait que la rugosité initiale est progressivement nivelée par la déposition de matière, et disparait d'autant plus rapidement après quelques couches que la taille de la rugosité est proche ou inférieure à celle des gouttelettes (Figures IV-16b et IV-16c). Ces simulations sont à comparer avec les images d'échantillons de dépôts observés au microscope obtenues au Centre de Compétence en Projection Plasma par l'équipe de M. Jeandin [Cochelin96].
D'autre part, nous avons également introduit des ensembles de
fibres (vues en section) dans notre champ de simulation: la
Figure IV-17 montre comment la morphologie des couches a été modifiée
par ce type de substrat. On constate en particulier une bonne adaptation
du dépôt à la géométrie du système et l'apparition de quelques
porosités de grande étendue en raison de la présence d'une gouttelette
infondue (Figure IV-17b).
Enfin, nous avons récemment cherché à augmenter le taux de porosité des dépôts
simulés, afin de mieux correspondre à la réalité. D'une part, la probabilité de rebond
du gaz porteur a pu être portée à grâce à une meilleure efficacité
de l'opérateur d'homégénéisation (initialement, on avait ). En conséquence,
les obstacles n'ont plus une action d'aspiration sur le gaz porteur,
et leur mouillabilité baisse fortement. D'autre part,
le diamètre des gouttelettes a été réduit par rapport à la dimension caractéristique
du substrat et au diamètre des fibres en particulier.
La Figure IV-18 montre deux simulations réalisées dans ces nouvelles conditions, qui
s'avèrent très intéressantes. Dans le cas de la projection sur une fibre, on
remarque nettement la formation de pores macroscopiques en forme de "V" de part et d'autre
de la fibre, comme cela a été constaté dans la réalité.
Différents types de mesures quantitatives sont envisagées afin de
mieux évaluer la corrélation entre les images réelles de dépôts
et les images de synthèse produites par notre modèle. Cependant, cette
étape s'est révélée particulièrement difficile à mettre en oeuvre,
notamment en raison des techniques complexes de traitement d'image qu'elle requiert
pour traiter les micrographies obtenues à partir d'expériences de dépôt
plasma réalisées sur le CAPS du Centre de Compétence en Projection Plasma
(ENSMP) et par la société Matra.
Parmi les mesures sur les dépôts réels et simulés, nous pouvons mentionner: